集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
T/ICMTIA 5.3-2020
- 标准号
- T/ICMTIA 5.3-2020
- 标准名称
- 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
- 英文名称
- Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits
- 状态
- 现行
- 发布日期
- 2020-12-31
- 实施日期
- 2021-03-01
- ICS 分类
- 29.045 半导体材料
- 起草单位
- 宁波南大光电材料有限公司
- 发布部门
- 团体标准-中关村集成电路材料产业技术创新联盟