真空表面处理工艺用离子源
T/GVS 003-2021
- 标准号
- T/GVS 003-2021
- 标准名称
- 真空表面处理工艺用离子源
- 英文名称
- Ion source for vacuum surface treatment process
- 状态
- 现行
- 发布日期
- 2021-06-28
- 实施日期
- 2021-06-28
- ICS 分类
- 23.160 真空技术
- CCS 分类
- J78 真空技术与设备
- 起草单位
- 中山市博顿光电科技有限公司;广东省中山市质量技术监督标准与编码所;佛山市博顿光电科技有限公司;南京茂莱光学科技股份有限公司;江苏曙光光电有限公司;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;同济大学;中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司;暨南大学;中国科学院上海技术物理研究所;中国科学院大连化学物理研究所;深圳市海目星激光智能装备股份有限公司;深圳市杰普特光电股份有限公司;烟台睿创微纳技术股份有限公司;珠海光库科技股份有限公司;广东振华科技股份有限公司;广东腾胜真空技术工程有限公司;成都兴南科技有限公司;湘潭宏大真空技术股份有限公司;成都南光机器有限公司;成都西沃克真空科技有限公司;上海嘉森真空科技有限公司;四川四盛真空设备有限公司;中山市北京理工大学研究院;佛山市南海区长光智能制造研究院;佛山市南海区广工大数控装备协同创新研究院;岭南师范学院;大恒新纪元科技股份有限公司;江苏北方湖光光电有限公司;南京波长光电科技股份有限公司;南京英田光学工程股份有限公司;润坤(上海)光学科技有限公司;沈阳仪表科学研究院有限公司;大鼎光学薄膜（中山）有限公司;中山市众盈光学有限公司;河源市众拓光电科技有限公司;中山凯旋真空科技股份有限公司
- 发布部门
- 团体标准-广东省真空学会