高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求
T/GVS 002-2021
- 标准号
- T/GVS 002-2021
- 标准名称
- 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求
- 英文名称
- Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant
- 状态
- 现行
- 发布日期
- 2021-06-28
- 实施日期
- 2021-06-28
- ICS 分类
- 23.160 真空技术
- CCS 分类
- J78 真空技术与设备
- 起草单位
- 中山凯旋真空科技股份有限公司;广东省中山市质量技术监督标准与编码所;华南理工大学;中山市博顿光电科技有限公司;中山火炬职业技术学院.
- 发布部门
- 团体标准-广东省真空学会