碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
T/CASAS 032-2023
- 标准号
- T/CASAS 032-2023
- 标准名称
- 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
- 英文名称
- Test method for the content of metal elements on the surface of silicon carbide wafer—Inductively coupled plasma mass spectrometry
- 状态
- 现行
- 发布日期
- 2023-06-19
- 实施日期
- 2023-06-19
- ICS 分类
- 31-030(电子技术专用材料)
- 起草单位
- 山东大学;广州南砂晶圆半导体技术有限公司;瀚天天成电子科技(厦门)有限公司;广东天域半导体股份有限公司;泰科天润半导体科技（北京）有限公司;杭州海乾半导体有限公司;安徽长飞先进半导体有限公司;中国科学院半导体研究所;中电化合物半导体有限公司;北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
- 发布部门
- 团体标准-北京第三代半导体产业技术创新战略联盟